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質量イメージング

示差走査熱量測定（測定試料と基準物質との間の熱量の差を計測し、融点やガラス転移点などを測定）します。

示差走査熱量測定（測定試料と基準物質との間の熱量の差を計測し、融点やガラス転移点などを測定）します。

円偏光の吸収の差（円二色性： CD）を測定する装置です。光学活性な分子の構造や電子状態、立体配置に関する情報が得られます。

各種材料のBRDF、BTDF測定をする装置です。

薄膜(はくまく)形成装置の一つで、半導体の表面に薄い膜を堆積する装置です。

TEOSをHeガスによるバブリング法により供給し、チャンバー内でプラズマアシストによる分解反応を発生させ、O2ガスと反応させることで酸化膜を形成する装置です。

SEM(走査型電子顕微鏡)にEDX(エネルギー分散型X線分析装置)を装備しており、観察領域における組成分析・元素マッピングができます。

化合物の同定・定量分析や、結晶構造の解析を行うことができます。

半導体及び金属材料などの結晶構造・欠陥構造・歪みなどを解析する装置。 反射率、膜厚・配向、小角散乱による粒径/空孔分布などの測定ができます。 製品や材料の品質・性能確認、不良解析などに利用できます。